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最新進展!Intel 18A產(chǎn)品(1.8nm級別)成功點亮

最新進展!Intel 18A產(chǎn)品(1.8nm級別)成功點亮

來源:本站時間:2024-08-08瀏覽數(shù):

英特爾(Intel)即將發(fā)布第二代酷睿Ultra處理器,包括低功耗的Lunar Lake(9月4日0點)、高性能的Arrow Lake(10月K系列其他明年CES),現(xiàn)在又公布了后續(xù)第三代酷睿Ultra Lunar Lake。在發(fā)布會之前,英特爾提前宣布了一個好消息,基于Intel 18A工藝節(jié)點(1.8nm級別)的首批產(chǎn)品…

英特爾(Intel)即將發(fā)布第二代酷睿Ultra處理器,包括低功耗的Lunar Lake(9月4日0點)、高性能的Arrow Lake(10月K系列其他明年CES),現(xiàn)在又公布了后續(xù)第三代酷睿Ultra Lunar Lake。


在發(fā)布會之前,英特爾提前宣布了一個好消息,基于Intel 18A工藝節(jié)點(1.8nm級別)的首批產(chǎn)品,包括AI PC客戶端處理器Panther Lake和服務器處理器Clearwater Forest,已經(jīng)成功點亮并運行操作系統(tǒng)。

產(chǎn)品圖片.jpg

預計2025年開始量產(chǎn)

英特爾的Intel 18A是該公司繼Intel 20A之后第二種使用GAA技術(shù)的RibbonFET全環(huán)繞柵極晶體管架構(gòu)和稱為PowerVia的背面供電制造技術(shù)。與2納米級工藝技術(shù)相比,Intel 18A承諾將優(yōu)化RibbonFET設(shè)計并增強其他一些功能,進一步使每瓦性能提高10%。


此時距離Panther Lake和Clearwater Forest兩款產(chǎn)品首次流片(tape-out)還不到6個月,可謂神速。預計兩款產(chǎn)品都將于2025年下半年開始量產(chǎn),稍微落后于臺積電的N2工藝技術(shù)。


英特爾還透露,采用Intel 18A工藝的首家外部客戶預計將于2025年上半年完成流片,之后預計在2026年上半年進入大量生產(chǎn)階段。這表明英特爾的先進工藝技術(shù)已經(jīng)開始吸引外部合作伙伴的興趣。


為了支持客戶更好地利用Intel 18A工藝,英特爾已于2024年7月發(fā)布了1.0版本的Intel 18A PDK(制程設(shè)計套件,Process Design Kit)。這一舉措將幫助Cadence、Synopsys、西門子EDA、Ansys等EDA和IP合作伙伴完善對Intel 18A的支持,推動新產(chǎn)品的設(shè)計和開發(fā)。


intel CEO:綜合性能優(yōu)于臺積電2nm

英特爾表示,Panther Lake 和 Clearwater Forest 分別是 Arrow Lake 和 Sierra Forest 的繼任者,無需額外改動即可成功啟動操作系統(tǒng),顯示了 Intel 18A 先進制程的健康狀況。


Panther Lake 的 DDR 內(nèi)存性能已達到目標頻率,而Clearwater Forest更將會是英特爾未來CPU、AI新品的基石,首次在規(guī)模量產(chǎn)產(chǎn)品中綜合使用RibbonFET、PowerVia、Foveros Direct3D封裝工藝,還是未來Intel 3-T基底裸片技術(shù)(base-die)的代表性產(chǎn)品。


這些技術(shù)的應用,還將有助于提高處理器的性能和能效,滿足AI計算的需求。


Intel 18A工藝也是英特爾2021年制定的“四年實現(xiàn)五個工藝節(jié)點”計劃中的最后一個節(jié)點,它的成功被視為英特爾在半導體工藝競爭中重奪領(lǐng)先地位的關(guān)鍵一步。按照英特爾的愿景,18A將是他們反超臺積電、重奪半導體工藝世界第一的關(guān)鍵節(jié)點!

產(chǎn)品圖片.jpg

更重要的是,Intel 18A是IFS潛在客戶非常感興趣的工藝技術(shù),因為它被認為比臺積電2024-2025年推出的3納米和2納米級產(chǎn)品更具競爭力。按照英特爾CEO Pat Gelsinger的說法,Intel 18A與臺積電的N2(2納米)所能容納的晶體管數(shù)量與性能相當,但通過個別創(chuàng)新技術(shù)在綜合性能表現(xiàn)優(yōu)于臺積電2納米。


目前全球10大先進封裝客戶中,已經(jīng)有一半擁抱了18A。然而,英特爾的股價走勢并未完全反映其在制程技術(shù)上的積極進展。近期的財報顯示,雖然在技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品開發(fā)上有所突破,但在財務表現(xiàn)上面臨一些挑戰(zhàn)。

文章來源:電子工程專輯


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